A Survey of Research in Large Language Models for Electronic Design Automation

要約

電子設計自動化 (EDA) の急速に進化する領域内で、ラージ言語モデル (LLM) が革新的なテクノロジとして登場し、電子設計のさまざまな側面を最適化および自動化するための前例のない機能を提供します。
この調査では、モデル アーキテクチャの進歩、さまざまなモデル サイズの影響、カスタマイズされた分析洞察を可能にする革新的なカスタマイズ技術に焦点を当て、EDA における LLM アプリケーションの包括的な調査を提供します。
この論文では、LLM 機能と EDA 要件の交差部分を調査することにより、これらのモデルが複雑なデータセットから微妙な理解を引き出す上で大きな影響を与えることを強調しています。
さらに、LLM を EDA ワークフローに統合する際の課題と機会に対処し、この動的な分野での将来の研究と応用への道を開きます。
この調査は、この詳細な分析を通じて、EDA 業界の専門家、AI 研究者、および高度な AI テクノロジーと電子設計の融合に関心のあるすべての人々に貴重な洞察を提供することを目的としています。

要約(オリジナル)

Within the rapidly evolving domain of Electronic Design Automation (EDA), Large Language Models (LLMs) have emerged as transformative technologies, offering unprecedented capabilities for optimizing and automating various aspects of electronic design. This survey provides a comprehensive exploration of LLM applications in EDA, focusing on advancements in model architectures, the implications of varying model sizes, and innovative customization techniques that enable tailored analytical insights. By examining the intersection of LLM capabilities and EDA requirements, the paper highlights the significant impact these models have on extracting nuanced understandings from complex datasets. Furthermore, it addresses the challenges and opportunities in integrating LLMs into EDA workflows, paving the way for future research and application in this dynamic field. Through this detailed analysis, the survey aims to offer valuable insights to professionals in the EDA industry, AI researchers, and anyone interested in the convergence of advanced AI technologies and electronic design.

arxiv情報

著者 Jingyu Pan,Guanglei Zhou,Chen-Chia Chang,Isaac Jacobson,Jiang Hu,Yiran Chen
発行日 2025-01-16 16:51:59+00:00
arxivサイト arxiv_id(pdf)

提供元, 利用サービス

arxiv.jp, Google

カテゴリー: cs.LG パーマリンク