要約
オープンソース EDA ツールは急速に進歩しており、EDA コミュニティ内でのコラボレーション、イノベーション、知識の共有が促進されています。
しかし、多数の設計パラメータやヒューリスティックを特徴とするこれらのツールの複雑さの増大は、その広範な導入に対して大きな障壁となっています。
この複雑さは集積回路 (IC) バックエンド設計で特に顕著であり、EDA ツールに関するエンジニアの専門知識がかなり要求されます。
この課題に取り組むために、LLM テクノロジーに基づくインテリジェントな IC バックエンド設計システムである IICPilot を紹介します。
IICPilot は、スクリプト生成、EDA ツールの呼び出し、EDA パラメータの設計空間の探索、コンテナベースのコンピューティング リソース割り当て、例外管理などのさまざまなバックエンド設計手順を自動化します。
これらのタスクを自動化することで、IICPilot はオープンソース EDA ツールへの参入障壁を大幅に下げます。
具体的には、IICPilot は LangChain のマルチエージェント フレームワークを利用して、個別の設計タスクを効率的に処理し、個別に柔軟な機能拡張を可能にします。
さらに、IICPilot は、統合 EDA 呼び出しインターフェイスを通じて、バックエンド設計ワークフローを特定のオープンソース EDA ツールから分離します。
このアプローチにより、OpenROAD や iEDA などのさまざまなオープンソース EDA ツールとのシームレスな統合が可能になり、バックエンドの設計と EDA ツール全体の最適化が合理化されます。
要約(オリジナル)
Open-source EDA tools are rapidly advancing, fostering collaboration, innovation, and knowledge sharing within the EDA community. However, the growing complexity of these tools, characterized by numerous design parameters and heuristics, poses a significant barrier to their widespread adoption. This complexity is particularly pronounced in integrated circuit (IC) backend designs, which place substantial demands on engineers’ expertise in EDA tools. To tackle this challenge, we introduce IICPilot, an intelligent IC backend design system based on LLM technology. IICPilot automates various backend design procedures, including script generation, EDA tool invocation, design space exploration of EDA parameters, container-based computing resource allocation, and exception management. By automating these tasks, IICPilot significantly lowers the barrier to entry for open-source EDA tools. Specifically, IICPilot utilizes LangChain’s multi-agent framework to efficiently handle distinct design tasks, enabling flexible enhancements independently. Moreover, IICPilot separates the backend design workflow from specific open-source EDA tools through a unified EDA calling interface. This approach allows seamless integration with different open-source EDA tools like OpenROAD and iEDA, streamlining the backend design and optimization across the EDA tools.
arxiv情報
著者 | Zesong Jiang,Qing Zhang,Cheng Liu,Huawei Li,Xiaowei Li |
発行日 | 2024-07-17 14:02:01+00:00 |
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