Parallax-Tolerant Image Stitching with Epipolar Displacement Field

要約

視差を伴う画像のスティッチングは依然として困難な作業です。
既存の方法では、位置合わせアーティファクトやワーピング歪みを軽減しながら、画像のローカル構造とグローバル構造の両方を維持するのに苦労することがよくあります。
この論文では、エピポーラ幾何学を利用してエピポーラ変位場に基づくワーピング技術を確立する新しいアプローチを提案します。
最初に、エピポーラ幾何学におけるピクセルのワーピング規則は、無限ホモグラフィーを通じて確立されます。
続いて、エピポーラ線に沿った歪んだピクセルのスライド距離を表すエピポーラ変位場が、局所的な弾性変形の原理に基づいて薄板スプラインによって定式化されます。
スティッチング結果は、エピポーラ変位場に従ってピクセルを逆ワープすることによって生成できます。
この方法では、ワーピング ルールにエピポーラ制約が組み込まれているため、高品質の位置合わせが保証され、パノラマの投影性が維持されます。
定性的および定量的な比較実験は、大きな視差を持つ画像を結合するための提案された方法の競争力を実証します。

要約(オリジナル)

Image stitching with parallax is still a challenging task. Existing methods often struggle to maintain both the local and global structures of the image while reducing alignment artifacts and warping distortions. In this paper, we propose a novel approach that utilizes epipolar geometry to establish a warping technique based on the epipolar displacement field. Initially, the warping rule for pixels in the epipolar geometry is established through the infinite homography. Subsequently, the epipolar displacement field, which represents the sliding distance of the warped pixel along the epipolar line, is formulated by thin-plate splines based on the principle of local elastic deformation. The stitching result can be generated by inversely warping the pixels according to the epipolar displacement field. This method incorporates the epipolar constraints in the warping rule, which ensures high-quality alignment and maintains the projectivity of the panorama. Qualitative and quantitative comparative experiments demonstrate the competitiveness of the proposed method for stitching images with large parallax.

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